半導体製造の前工程で用いられるCVD装置のリアクタ開発では、成膜速度や膜質の均一性を確保しつつ、開発期間短縮やコスト削減が求められます。
特にデバイス微細化の進展に伴い、従来の手法では対応が難しくなるケースも増えています。
これを解決する手段として、シミュレーションによる表面反応解析が注目されています。
この技術を活用すれば、試作や実験を行わずに設計アイデアの検証が可能となり、所要の性能を実現するための構造や寸法を導き出せます。

本セミナーでは、枚葉式CVDリアクターのシャワーヘッド構造変更によるウェハ面内のシリコン酸化膜堆積速度分布の変化を、反応解析を用いて検証するアプローチを紹介します。
また、試作実験との比較を通じてコスト面での有効性も議論します。

さらに、解析する際に必要な物性データや反応データをセットするに際に求められる知識や課題にも触れ、シミュレーションツール「Ansys Fluent」を用いた検証事例を解説します。