ウェハ洗浄は、微小な汚染物質や不純物を除去し、ウェハ表面をクリーンに保つために行われる、半導体製造プロセスの中で非常に重要なステップです。
ウェハはデバイスを作成するための基板であり、その表面の清浄さは製品の品質や歩留まりに大きく影響します。
また表面を高純度に保つための不可欠なプロセスで、半導体製造における各工程の前後で繰り返し行われるため、洗浄工程の増加によるコストと時間の増大が主な課題となっています。