CVD蒸着は、ガス状の化学物質を用いて基板の表面に薄膜を形成する技術で、半導体チップ、太陽電池、光ファイバー、耐摩耗コーティングなどに使用されています。
CVD蒸着には多くの利点がある一方で、温度管理の難しさ、薄膜の均一性の確保、コストの問題、環境への影響などの技術的課題も存在します。
特にコストの面で、高温のプロセスや特殊なガスの使用により資材コストが高くなる場合があり、また装置の運転コストも考慮する必要があります。