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シリコンウェハ汚染予測ソリューション
このようなニーズはありませんか？
・シリコンウェハの品質を安定させたい
・歩留まりを向上させたい
シリコンウェハは半導体デバイスの基盤となる重要な材料であり、電子機器の品質と信頼性を確保するためには検査が不可欠です。
シリコンウェハの汚染は半導体の性能や歩留まりを大きく左右し、生産コスト増加の原因になります。
近年、半導体の微細化・高集積化が進み、ナノレベルでの汚染や欠陥が製品品質に深刻な影響を与えるため、ウェハの清浄度管理がこれまで以上に求められています。
ソリューションの概要と特長
半導体デバイスの基盤となるシリコンウェハの汚染は、半導体の性能や歩留まりを大きく左右し、生産コスト増加の原因になります。
本資料では、Ansys Fluentを用いてのシリコンウェハ汚染予測の解析事例をご紹介します。
本資料では、Ansys Fluentを用いてのシリコンウェハ汚染予測の解析事例をご紹介します。
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