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レジスト塗布解析ソリューション
～Ansys FLUENTを活用して製品品質の向上を実現～
このようなニーズはありませんか？
・実験の代用としてレジスト塗布の解析を実施したい
・レジスト塗布現象を可視化して製品品質の向上につなげたい
レジスト塗布は、フォトリソグラフィ工程において半導体ウェハ上にフォトレジストという感光性の材料を均一に塗布するプロセスです。
この工程は微細なパターンをウェハ上に形成するため、非常に重要です。
また半導体プロセスの中でも特に精密な工程であり、パターンの解像度や品質に直結するため技術的な管理が非常に重要で、膜厚の均一性の確保や制御、パーティクルの影響などが課題として挙げられます。
ソリューションの概要と特長・効果
本ソリューションでは、Ansys FLUENTを活用したレジスト塗布現象の可視化が可能です。
装置の適切な運転条件を解析で見出すことで、製品品質の向上やコストの低減が期待できます。
装置の適切な運転条件を解析で見出すことで、製品品質の向上やコストの低減が期待できます。
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