CYBERNET

資料ダウンロード

光学解析

マスク設計における光強度の影響可視化

このようなニーズはありませんか?

・マスク設計において光の波動の影響を考慮した開発を行いたい

マスク設計はマスク透過後のレジスト内の光強度を制御するための設計です。
課題として、マスク透過後の光の振る舞いがフォトマスク直下~レジスト膜上の光強度分布に影響を与える可能性があります。マスクの厚みが波長と近いため、幾何光学的だけではなく、光の波動の影響がでるためです。
条件が悪いと不均一な分布やムラの発生がおき、対策のための手戻りの要因となります。

ソリューションの概要と特長・効果

本ソリューションは、AnsysLumericalを活用してマスク設計において電磁場光学的なすべての光の影響を考慮することで実機確認前に様々な影響を検討可能となるソリューションです。

Ansys、ならびにANSYS, Inc. のすべてのブランド名、製品名、サービス名、機能名、ロゴ、標語は、米国およびその他の国におけるANSYS, Inc. またはその子会社の商標または登録商標です。その他すべてのブランド名、製品名、サービス名、機能名、または商標は、それぞれの所有者に帰属します。本ウェブサイトに記載されているシステム名、製品名等には、必ずしも商標表示((R)、TM)を付記していません。 CFX is a trademark of Sony Corporation in Japan. ICEM CFD is a trademark used by Ansys under license. LS-DYNA is a registered trademark of Livermore Software Technology Corporation. nCode is a trademark of HBM nCode.