資料ダウンロード
マスク設計における光強度の影響可視化
このようなニーズはありませんか?
・マスク設計において光の波動の影響を考慮した開発を行いたい
マスク設計はマスク透過後のレジスト内の光強度を制御するための設計です。
課題として、マスク透過後の光の振る舞いがフォトマスク直下~レジスト膜上の光強度分布に影響を与える可能性があります。マスクの厚みが波長と近いため、幾何光学的だけではなく、光の波動の影響がでるためです。
条件が悪いと不均一な分布やムラの発生がおき、対策のための手戻りの要因となります。
ソリューションの概要と特長・効果
本ソリューションは、AnsysLumericalを活用してマスク設計において電磁場光学的なすべての光の影響を考慮することで実機確認前に様々な影響を検討可能となるソリューションです。