ファーフィールド・ニアフィールドパターン
ファーフィールド・ニアフィールドパターンとは
発光素子、光ファイバ等の出射部の光出力の平面分布をニアフィールドパターン、出射部より離れた光出力の角度分布をファーフィールドパターンと言います。 レーザダイオード（LD）の場合、結晶の構造などによりニアフィールドパターンが異なります。光の発振モードが単一の場合はガウス分布に近いニアフィールドパターンになりますが、多モード発振（結晶内での発振モードが複数存在）の場合は、ピークを複数持つニアフィールドパターンを示すことがあります。 LDのファーフィールドパターンの計測にはナイフエッジ法と呼ばれる手法や、ビームプロファイラという機器が使用されます。ナイフエッジ法では鋭く直線的な端面を移動させて光をカットし、その後部にある受光素子でその移動した面での強度分布を得ます。ビームプロファイラでは２次元の受光素子アレイ（CCDやCMOS）を使用して分布を測定します。
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