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AR/VR用回折光学素子を搭載した射出瞳光学系の最適化

  • WEBセミナー(無料)
  • OpticStudio

近年、没入型ディスプレイ分野にてAR/VR/MR向け回折素子デバイスの研究開発が活発化しております。当デバイスの設計には、回折素子のナノ構造の光学特性を考慮した設計や光学系全体での巨視的な光線追跡が重要となります。
この解析は2023R1より導入された光学設計ソフトウェアAnsys Zemax OpticStudioと、フォトニクス解析ソフトウェアAnsys Lumericalの静的/動的連携機能により実現することが出来ます。
本講演では、射出瞳拡張光学系 (EPE)を題材として連携強化による解析手法をご紹介します。

AR/VR用回折光学素子を搭載した射出瞳光学系の最適化
AR/VR用回折光学素子を搭載した射出瞳光学系の最適化

【以下のような方におすすめ!】

・光学製品を開発/設計される方、ディスプレイデバイスを開発/設計される方
・光学素材(機能性フィルム・ガラス、樹脂)を開発、設計される方

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開催概要

開催形態 Zoomを用いたWEBセミナー形式での開催となります。
視聴料 無料 (WEB事前登録制)
定員 80名
注意事項 ・各セミナーの録音・録画は一切禁止とさせていただいております。
・申込者以外の第三者への視聴URLの転送や共有はご遠慮ください。
・各セミナーの終了時刻は、講演内容により多少前後する場合がございます。あらかじめご了承ください。

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