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AR/VR用回折光学素子を搭載した射出瞳光学系の最適化

近年、没入型ディスプレイ分野にてAR/VR/MR向け回折素子デバイスの研究開発が活発化しております。当デバイスの設計には、回折素子のナノ構造の光学特性を考慮した設計や光学系全体での巨視的な光線追跡が重要となります。
この解析は2023R1より導入された光学設計ソフトウェアAnsys Zemax OpticStudioと、フォトニクス解析ソフトウェアAnsys Lumericalの静的/動的連携機能により実現することが出来ます。
本講演では、射出瞳拡張光学系 (EPE)を題材として連携強化による解析手法をご紹介します。

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開催概要

主催 サイバネットシステム株式会社
受講料 無料 (WEB事前登録制)
注意事項 本セミナーの録音・録画は一切禁止とさせていただいております。
また、第三者への視聴URLの転送や共有はご遠慮ください。

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