いまさらきけない光学計算第5回：最適化の有効利用

この記事の内容

3-4: 二の字型の集光状態を作ってみます

最後に「二」の字状のスポットとなるよう、ENT光線を使って面形状を変形してみます。
XY多項式を使用します。

初期モデルを作成します。 
len new
ins s2
s1 0 1 nbk7
s2 0 10

tow vie;fan ;go       !このような平行平板です。
ここから、像面上に「二」の字状のスポットを形成するよう、面を変形します。
XY多項式面を使用します。 
SPS XYP S2        !後面をXY多項式面へ
SCO S2 C68 1
SCC S2  C6 0
SCC S2  C15 0
SCC S2  C28 0
SCC S2  C45 0

!集光スポット形状を、二の字型に変えてみます。
aut
err usr

mxc 100

mnc 50
absf(sagf(2,1,0,1)) < 0.1 

!ENT光線を定義します。
ent s1 0 1.0     !E1
ent s1 0 0.9     !E2
ent s1 0 0.8     !E3
ent s1 0 0.7     !E4
ent s1 0 0.6     !E5
ent s1 0 0.5     !E6
ent s1 0 0.4     !E7
ent s1 0 0.3     !E8
ent s1 0 0.2     !E9
ent s1 0 0.1     !E10

!二の字
abr f1 e1..10 si y 2 0.5  !E1~10の像面上Y座標 = 0.5

go

tow spo;nrd 100;pat sob;go   !スポット形状は？
前側の面もXY多項式面へ変更します。 
SPS XYP S1   !前面もXY多項式面に変更。
SCO S1 C68 1
SCC S1 C6 0
SCC S1 C15 0
SCC S1 C28 0

thc s1 0

aut
err usr

mxc 100
mnc 50

@sag_limt==absf(sagf(2,1,0,1))
@sag_limt < 0.2   !極端な折れ曲がり
                  !形状を阻止します。

!ENT光線を定義します。

ent s1 0 1.0     !E1
ent s1 0 0.9     !E2
ent s1 0 0.8     !E3
ent s1 0 0.7     !E4
ent s1 0 0.6     !E5
ent s1 0 0.5     !E6
ent s1 0 0.4     !E7
ent s1 0 0.3     !E8
ent s1 0 0.2     !E9
ent s1 0 0.1     !E10

!二の字
abr f1 e1..10 si y 2 0.5  !E1~10の像面上Y座標 = 0.5
go

tow vie;fan 0 41;go
tow spo;nrd 100;pat sob;go   !スポット形状は？

ここでは像面上の「座標」を使用して説明しましたが、他にも以下の様々なターゲットが用意されています。
いろいろ試してENT光線に慣れましょう。

4: まとめ

今回は1点への集光を目的と ”しない” 最適化の使い方をいくつかご紹介しました。
いかがでしたか？(例外もありましたが・・・)
光線を介して面形状や配置、スポット(光線集光位置)形状を操作しました。
知っている人は知っている内容ですが、長年CODE Vを使用されている方でも案外知らない内容も合ったのではないかと思います。個人的にはENT光線が非常に強力だな・・と感じています。皆様はいかがでしょうか？
今後、更にCODE Vを使いこなす上で、何かヒントとしてご利用頂ければ幸いです。

(最適化の有効利用 おわり)

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目次
  1. 第1回：光線と波面
  2. 第2回：光線追跡
  3. 第3回：面形状と導関数
  4. 第4回：点像分布関数の計算
  5. 第5回：最適化の有効利用
  6. 第6回：偏光を計算するために

 


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