半導体リソグラフィ用マスクの欠陥検査を行なうための顕微鏡開発

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東北大学 豊田様

本研究室では、可視光よりも短波長であるExtreme Ultraviolet (EUV)を用いることで、高い空間分解能が得られるEUV顕微鏡の開発を行なっている。
EUV顕微鏡の応用先として、半導体リソグラフィ用のマスクの欠陥検査を行なうための顕微鏡開発をテーマとし、研究を行なった。

使用ツール
光学設計評価プログラム CODE V

 

 


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