ANSYS Conference 2010 発表事例論文 FEMを用いたCDSEM開発

発表団体名

株式会社アドバンテスト

発表事例論文要約

半導体デバイスの微細化が進むにつれ、フォトマスク用線幅測定電子顕微鏡(Mask-CDSEM)に要求される精度および安定性はますます重要になっている。特に振動は線幅測定結果(CD値)に大きな影響を与え、測定再現性を悪化させる要因となってきた。次世代機は設置環境に影響されず安定した測長をすることができる耐環境性能が要求される。本発表では、CDSEM開発にFEMや動解析を適用した事例や、CAE導入経緯について報告する。

発表イベント

ANSYS Conference 2010

解析種類


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