E-516:20-17:00

流体解析

熱CVD法によるTiN薄膜成膜実験およびCFDによる熱物質移動解析
宇部興産株式会社
羽鳥 祐耶 様

講演概要

本研究では,水平管型反応器を用いて,熱CVD法によるH2-N2-TiCl4からのTiN薄膜生成実験を行い,管軸方向の成膜速度分布の測定を行った.また,流れを伴う場合の反応モデルを構築し反応速度定数を算出した.さらに,実験で得られた成膜分布を再現するため,反応速度定数に対する最適化を取り入れた簡易的な数値解析を行った.得られた反応速度定数を用いてANSYS Fluentを用いた詳細数値解析を行い実験結果との比較を行った.

キーワード

CFD、CVD、表面反応、拡散律速

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